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Micron、広島ファブに日本初のeuv装置を導入し2025年にdram製造開始 Texal

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Intel、初の商用high Na Euvリソグラフィ装置の組み立てを完了 Xenospectrum

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重量はクジラ級! 超巨大な高na Euv装置の設置をintelが公開 L20240419intel009w290 Ee

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Micron、euv適用の1γ Dramを広島工場で製造へ Lmm230518micron01 Ee Times Japan

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Takeshi Hattori Phd Hattori Consulting Intl On Twitter Euv広島県は

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露光装置自体はオランダのasmlが世界市場を独占しているが、レーザーテックの手掛ける検査装置がなければ、euv技術を使った最先端半導体を効率的

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2022年1 3月期決算レポート:asmlホールディング(2025年までに現行euv露光装置の年間生産能力を55台から約90台に拡張することを

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